CK300磁控溅射镀膜机销售-沈阳鹏程真空技术

双靶磁控溅射镀膜机的特点有哪些？

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产品特点

1：此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜

2：该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。

3：该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。

磁控溅射介绍

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由于被溅射原子是与具有数十电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的，因而溅射出来的原子能量高，有利于提高沉积时原子的扩散能力，提高沉积组织的致密程度，使制出的薄膜与基片具有强的附着力。

溅射时，vct500磁控溅射镀膜机销售，气体被电离之后，气体离子在电场作用下飞向接阴极的靶材，电子则飞向接地的壁腔和基片。这样在低电压和低气压下，产生的离子数目少，靶材溅射效率低；而在高电压和高气压下，尽管可以产生较多的离子，但飞向基片的电子携带的能量高，容易使基片---甚至发生二次溅射，影响制膜。另外，靶材原子在飞向基片的过程中与气体分子的碰撞几率也大为增加，因而被散射到整个腔体，既会造成靶材浪费，又会在制备多层膜时造成各层的污染。